Y-Ba-Cu氧化物超导体的离子束溅射沉积薄膜及其O+注入

Y-Ba-Cu氧化物超导体的离子束溅射沉积薄膜及其O+注入 O + IMPLANTATION OF THIN FILMS PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING FROM Y-Ba-Cu OXIDE SUPERCONDUCTOR 范湘军 Fan Xianjun 1 2 first-author 彭友贵 Pen Yougui 1 2 徐在贵 Xu Zaigui 1 2 郭怀喜 Guo Huaixi 1 2 叶明生 Ye Mingshen 1 2 夏柏桦 Xia Baihua 1 2 Department of Physics Wuhan University Department of Physics Wuhan University Department of Physics, Wuhan University Department of Physics, Wuhan University Department of Physics Wuhan University Department of Physics Wuhan University < 正 > 高Tc超导薄膜在基础研究和应用方面受到广泛重视。人们竞相用各种物理气相沉积（PVD）方法,包括电子束蒸发、激光束蒸发、等离子体溅射等,制备金属氧化物薄膜。其中离子束溅射方法具有沉积参数易于控制,工艺重复性好,所获薄膜超导相较纯,薄膜与衬底粘附力强等优点,是一种很有前途的制膜技术。我们在一台GZD450型高真空镀膜机上,安装一个LS-30型Kaufman离子源,组成一套离子束溅射设备。通过300孔Mo栅引出Ar + 束,多个子束空间均匀混合形成截面积为7cm 2 的强束流。溅射靶材料用Y 2 O 3 、BaCO 3 和CuO的粉料研磨混匀、油压成型,在管式炉中烧结而成。图1为靶样的电阻率—温度曲线,超导转变温度Tc > 90K。用2.5 < 正 > 高Tc超导薄膜在基础研究和应用方面受到广泛重视。人们竞相用各种物理气相沉积（PVD）方法,包括电子束蒸发、激光束蒸发、等离子体溅射等,制备金属氧化物薄膜。其中离子束溅射方法具有沉积参数易于控制,工艺重复性好,所获薄膜超导相较纯,薄膜与衬底粘附力强等优点,是一种很有前途的制膜技术。我们在一台GZD450型高真空镀膜机上,安装一个LS-30型Kaufman离子源,组成一套离子束溅射设备。通过300孔Mo栅引出Ar + 束,多个子束空间均匀混合形成截面积为7cm 2 的强束流。溅射靶材料用Y 2 O 3 、BaCO 3 和CuO的粉料研磨混匀、油压成型,在管式炉中烧结而成。图1为靶样的电阻率—温度曲线,超导转变温度Tc > 90K。用2.5 1988-04-01 2021-04-01 4