环形磁控溅射原位制备高温超导外延膜的研究

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研究简报 | 更新时间：2021-04-02

- 环形磁控溅射原位制备高温超导外延膜的研究
- THE INVESTIGATION OF HTSC FILMS DEPOSITED BY CATHODE HOLLOW MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
- 武汉大学学报（理学版） 1993年第5期页码：126-128
- 作者机构：
  
  1. 武汉大学物理学系
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助的课题()
- DOI：中图分类号： Q571.33
- 纸质出版日期：1993-5-1，
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引用本文
[1]孟宪权,蒋昌忠,范湘军,彭友贵.环形磁控溅射原位制备高温超导外延膜的研究[J].武汉大学学报(自然科学版),1993(05):126-128.

Meng Xianquan Jiang Changzhong Fan Xiangjun Peng Yougui. THE INVESTIGATION OF HTSC FILMS DEPOSITED BY CATHODE HOLLOW MAGNETRON SPUTTERING DEVICE[J]. 1993, (5):126-128.
[1]孟宪权,蒋昌忠,范湘军,彭友贵.环形磁控溅射原位制备高温超导外延膜的研究[J].武汉大学学报(自然科学版),1993(05):126-128. DOI：

Meng Xianquan Jiang Changzhong Fan Xiangjun Peng Yougui. THE INVESTIGATION OF HTSC FILMS DEPOSITED BY CATHODE HOLLOW MAGNETRON SPUTTERING DEVICE[J]. 1993, (5):126-128. DOI：

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