您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
重掺Te的GaSb中缺陷的正电子寿命研究
物理学与电子信息学 | 更新时间:2021-04-02
    • 重掺Te的GaSb中缺陷的正电子寿命研究

    • Positron Lifetime Study of Defects in Heavily Te-Doped GaSb

    • 武汉大学学报(理学版)   2007年第5期 页码:585-588
    • 中图分类号: O472
    • 纸质出版日期:2007-05-01

    移动端阅览

  • [1]李辉,柯君玉,庞锦标,汪兵,戴益群,王柱.重掺Te的GaSb中缺陷的正电子寿命研究[J].武汉大学学报(理学版),2007(05):585-588. DOI:

    LI HUI, KE JUNYU, PANG JINBIAO, et al. Positron Lifetime Study of Defects in Heavily Te-Doped GaSb. [J]. 2007, (5): 585-588. DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

112

下载量

1

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

用正电子研究半导体材料GaSb的缺陷
γ辐照InP的正电子湮没研究
用正电子寿命谱研究GeSex硫系玻璃的自由体积
Fe离子注入ZnO产生的缺陷及磁学性能研究
纯Al和AA2037铝合金腐蚀相关缺陷的正电子湮没研究

相关作者

王柱
邵云东
赵有文
唐方圆
马莉
李世清
陈志权
胡新文

相关机构

四川大学辐射物理及技术教育部重点实验室
中国科学院半导体研究所
武汉大学物理学系
武汉大学物理学系
批量引用
0